三星在举办的“Samsung Foundry Forum 2021”论坛活动上,三星代工业务总裁兼负责人Siyoung Choi博士介绍了其半导体工艺的研发和量产情况,公布了新版的技术路线图。这表明三星将继续开发先进半导体制造技术,与台积电(TSMC)和英特尔竞争晶圆代工市场。 @5H1Ni5/o@
Wxg,y{(`
v#.FK:u}
为了在半导体工艺上赶上台积电,三星在3nm制程节点引入了全新的GAAFET全环绕栅极晶体管工艺,分为早期的3GAE以及3GAP。虽然在今年上半年已成功流片,但由于技术难度较高,第一代3nm工艺已推迟到2022年上半年量产,第二代3nm工艺将会在2023年量产。MBCFET多桥-通道场效应晶体管工艺是GAAFET工艺的全新形式,不但保留了GAAFET工艺的优点,而且兼容之前的FinFET工艺技术,新版技术路线图中的2nm制程节点(MBCFET)将于2025投入生产。 2#LcL
xDu11W+g
三星表示,与原来的5nm工艺相比,首个采用采用MBCFET工艺的3nm GAA制程节点的芯片面积减少了35%,性能提高30%或功耗降低50%。除了功耗、性能和面积(PPA)上的改进,随着制程技术成熟,3nm工艺的良品率将会接近4nm工艺。竞争对手之一的英特尔在Intel 7/4/3制程节点仍依赖FinFET,最早会在2024年才转向新型晶体管(称为RibbonFET)。另一个竞争对手台积电在N4和N3制程节点仍使用FinFET,要到N2制程节点才引入GAA工艺,大概会在2024年投入生产。 BbZ-dXC<
kL^;^!Nt
I]>-~_
除此以外,三星还介绍了用于CIS、DDI、MCU的17LPV工艺,即Low Power Value的17nm工艺。这是28nm工艺的演进版,在28nm工艺基础上加入了14nm工艺使用的FinFET工艺技术,以相对低成本享受到新的技术优势。与原来的28nm工艺相比,芯片面积可减少43%,性能提高39%或功耗降低49%。 l^ni"X
hA?j"y0?
以上是原文 kwdmw_
=YBwO. !%
很多消费者惊讶发现,三星s21ultra在某东月销量2万台,价格1.1万元。 #lQbMuR
去年三星在中国销售680-720万台手机,今年可能达到750万台,几年后每年8、9百万台。 V-CPq
那个因电池爆炸门在中国急剧销量下降的三星又回暖了! !arcQ:T@G
三星s系列年销量1.05亿台,s21年销量估4.6千万台。 Tk9*@kqv
07-09年,三星在中国年销售9千万台手机,几乎占中国市场份额1/3。 %5*gsgeI
后来山寨三星狂风飚起,真三星开始走下坡。 $"T1W=;j9
中国年产2.5亿台千元以下山寨三星,出口2.2亿台;年产4千万台千元以上山寨三星,出口2.25千万台。 =1lKcA[z
p8BA an3
山寨三星w2015生产10年?刚开始年产80万台,价格3.2千元。现在年产30万台,价格1.7千。看来真的生产到2024年,价格800元。 山寨三星w2018刚出时4.2千元,现在2.8千元,炙手可热。 山寨苹果1.3-1.68千元,年产5千万台,出口2.8千万台。 学生党、打工族最爱,公众场合装b。